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盛美推出負(fù)壓清洗平臺(tái) 服務(wù)快速發(fā)展的芯粒產(chǎn)業(yè)

2023-9-14 8:06:00

    盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱“盛美上海”)(科創(chuàng)板股票代碼:688082),作為一家為半導(dǎo)體前道和先進(jìn)晶圓級(jí)封裝應(yīng)用提供晶圓工藝解決方案的領(lǐng)先供應(yīng)商,今宣布推出了負(fù)壓清洗平臺(tái),以滿足芯粒和其他3D先進(jìn)封裝結(jié)構(gòu)清除助焊劑的獨(dú)特需求。 本次新產(chǎn)品由盛美與數(shù)家主要客戶合作開發(fā)完成,工藝性能出色,清洗后能夠做到無助焊劑殘留。盛美宣布已收到中國一家大型制造商對(duì)本產(chǎn)品的采購訂單,預(yù)計(jì)將于明年第一季度完成交付。   

    半導(dǎo)體行業(yè)正在探索在不縮小晶體管尺寸的情況下,用其他架構(gòu)制造功能更強(qiáng)大的芯片,人們對(duì)模塊化芯片技術(shù)的興趣也不斷高漲。這種“超越摩爾定律(more-than-Moore)”方法將模塊化芯片組合在一起,形成更復(fù)雜的集成電路,與傳統(tǒng)的單片芯片相比,具有性能提高、成本降低和設(shè)計(jì)靈活性增加的優(yōu)點(diǎn)。這種芯粒將廣泛應(yīng)用于服務(wù)器、個(gè)人電腦、消費(fèi)電子產(chǎn)品和汽車領(lǐng)域。不久前于2023年1月舉行的芯粒峰會(huì)上, Yole Intelligence 發(fā)布了對(duì)芯粒市場(chǎng)的最新監(jiān)測(cè)消息,稱隨著芯粒應(yīng)用于不同平臺(tái),預(yù)計(jì)高性能封裝的市場(chǎng)滲透率將不斷提高,2021年的市場(chǎng)滲透率為24%,這一數(shù)字到2027年將提高至39%。

    盛美上海董事長王暉博士表示:“芯粒是半導(dǎo)體制造行業(yè)中的一個(gè)重大市場(chǎng)機(jī)遇,但機(jī)遇背后的獨(dú)特挑戰(zhàn),依靠傳統(tǒng)的清洗技術(shù)無法有效解決。盛美上海與多家重要客戶展開合作,共同應(yīng)對(duì)裝配芯粒所面臨的技術(shù)挑戰(zhàn),并提供差異化的產(chǎn)品和服務(wù),保證大批量生產(chǎn)所需的性能和產(chǎn)能。這款負(fù)壓清洗產(chǎn)品可完美應(yīng)對(duì)這一模式,再次豐富我們的產(chǎn)品組合,并且抓住新興市場(chǎng)的機(jī)遇。

關(guān)于Ultra C v 負(fù)壓清洗平臺(tái)
 
    清除回流焊后使用的助焊劑,是先進(jìn)封裝工藝的一部分,盛美上海的Ultra C v 負(fù)壓清洗平臺(tái)可滿足這一獨(dú)特要求。設(shè)備的尺寸不斷縮小,傳統(tǒng)的大氣壓下高水壓對(duì)縫沖洗已不再適用。借助開發(fā)一種能在真空條件下進(jìn)行清洗的產(chǎn)品,可以改善表面親水性,讓液體能夠在極度狹窄的空間內(nèi)流動(dòng),從而在合理時(shí)間內(nèi)完全清除助焊劑殘留。 對(duì)于助焊劑浸漬程度非常高的產(chǎn)品,還可以添加一種皂化劑,以達(dá)到徹底清洗的目的。