“盛美的單片SPM設(shè)備是在盛美的Ultra C Tahoe設(shè)備基礎(chǔ)上而開發(fā)。盛美Tahoe設(shè)備的優(yōu)越性能已得到驗(yàn)證，可解決大部分常規(guī)溫度的SPM工藝步驟。”盛美半導(dǎo)體設(shè)備董事長王暉表示：“我們開發(fā)的單片SPM設(shè)備，對(duì)Tahoe設(shè)備已被驗(yàn)證的工藝能力做了進(jìn)一步補(bǔ)充，增加了高溫SPM工藝能力，也進(jìn)一步豐富了我們的濕法產(chǎn)品系列。我們以成為全球主要的清洗解決方案供應(yīng)商為目標(biāo)，會(huì)繼續(xù)開發(fā)新的工藝能力，包括先進(jìn)的高溫IPA干燥技術(shù)和超臨界二氧化碳干燥技術(shù)。”
目前大部分SPM濕法工藝中硫酸與雙氧水混合后的工藝溫度在145攝氏度以下，被廣泛應(yīng)用于光刻膠去除，刻蝕后、常規(guī)劑量離子注入后、化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）后的清洗工藝。盛美的Ultra C Tahoe系統(tǒng)已于2018年發(fā)布，將槽式硫酸與單片清洗整合在一套系統(tǒng)中，針對(duì)處理上述這些工藝，其優(yōu)越的性能已獲得了業(yè)界的認(rèn)可，在得到更好的清洗效果的同時(shí)，因?yàn)榇蠓鶞p少了硫酸的用量，成本也得以大幅降低。
